HMDS烘箱 图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机用途

 使用HMDS（六甲基二硅氮烷）对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布，以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转，形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

HMDS烘箱 图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机应用行业

MEMS系统

CVD薄膜；

光刻

用于光刻胶附着力的 HMDS 

作为聚合物和基材之间的粘合层

作为印章和聚合物材料之间的非常薄和保形的离型层；

喷墨

防止墨水积聚在喷嘴面板上，确保墨水流动不受限制；

生物MEMS

亲水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善润湿性，或防止蛋白质吸收，或减少器件性能的“漂移”

微阵列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白质、抗体、组织；

光学和 AR/VR 应用

修改光学特性

创建纳米压印层或钝化层；

图像反转

金属剥离工艺，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的无蚀刻工艺；

HMDS烘箱 图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机技术性能

材质：内箱采用316L医用级不锈钢

工艺温度：100-150℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：≤±0.5

真空度：≤133pa（1torr）

操作界面：人机界面，一键作业

层数:2层

HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

图像处理：图像反转

真空泵: 进口无油泵

保护装置：紧急停止，HMDS药液泄漏报&警提示，HMDS低液位报&警，超温保护，漏电保护，过热保护等